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357201460
商品編碼 | 商品名稱 |
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8486302200 | 高透導電膜5層成膜裝置 |
8486302200 | 高透導電膜1層成膜裝置 |
8486302200 | 陣列磁控濺射機 |
8486302200 | 鍍膜機/制造平板顯示器專用 |
8486302200 | 金屬濺鍍沉積設備 |
8486302200 | 蒸鍍機 |
8486302200 | 蒸發(fā)裝置 |
8486302200 | 磁控濺射鍍膜設備 |
8486302200 | 磁控濺射設備 |
8486302200 | 真空鍍膜設備 |
8486302200 | 電子束蒸發(fā)裝置 |
8486302200 | 物理氣相沉積裝置(銦錫氧化物) |
8486302200 | 物理氣相沉積裝置 |
8486302200 | 濺射機 |
8486302200 | 氧化物物理氣象沉積機 |
8486302200 | 舊PVD真空鍍膜機 |
8486302200 | 多靶磁控濺射鍍膜系統(tǒng);將靶材上的材料均勻沉積到器件上;利用等離子體濺射原理,用于半導體器件;丹頓 |
8486302200 | 制造平板顯示器用物理氣相沉積裝置(PVD) |
8486302200 | 制造平板顯示器物理氣相沉積裝置 |